目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。

據(jù)統(tǒng)計：根據(jù) SEMI， 目前全球半導(dǎo)體光刻掩膜版市場規(guī)模近 34 億美元，即 210 億人民幣。未來光刻掩膜版市場增長速度將在 5%左右。2015年我國光掩膜版需求市場規(guī)模為56.7億元，2016年國內(nèi)需求市場規(guī)模增長至59.5億元，規(guī)模較上年同期增長4.9%。

從我國光掩膜版的需求量來看，行業(yè)需求穩(wěn)定增長，2016年需求量達到了7.98萬平方米。

光掩膜版行業(yè)的發(fā)展主要受下游平板顯示行業(yè)、觸控行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)和電路板行業(yè)的發(fā)展影響，與下游終端行業(yè)的主流消費電子 （手機、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子等產(chǎn)品的發(fā)展趨勢密切相關(guān)，預(yù)計未來幾年我國光掩膜版行業(yè)將向大尺寸、精細化、全產(chǎn)業(yè)鏈方向發(fā)展。2011年我國光掩膜版生產(chǎn)規(guī)模為0.87萬平方米，2016年生產(chǎn)規(guī)模增長至1.69萬平方米，復(fù)合增長率達到14.20%。

半導(dǎo)體光掩模市場集中度高， 寡頭壟斷嚴(yán)重， Photronics、大日本印刷株式會社 DNP 和日本凸版印刷株式會社 Toppan 三家占據(jù) 80%以上的市場份額。我國的光掩膜版行業(yè)僅能夠滿足國內(nèi)中低檔產(chǎn)品市場的需求，高檔光掩膜版則由國外公司直接提供。目前，國內(nèi)的光掩膜版企業(yè)主要集中在上海、北京、深圳及江浙地方，它們的市場側(cè)重點各不相同。